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台积电取得ASML EUV微影设备以研发新工艺

发布时间：2020-07-01

TSMC与荷兰艾司摩尔(ASML)公司近日共同宣布.TSMC将取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet.EUV)微影设备.是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一. 这项设备将安装于TSMC的超 ...<全部>

工艺设备

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Cymer发布EUV光源技术路线图

发布时间：2020-07-01

光源对于光刻机的重要性不言而喻.没有光源的匹配.一切图形成像都无从谈起.从1986年开始.Cymer正式进入半导体产业.目前已有超过3500套光源安装在世界各地的光刻设备上.Cymer所占的市场份额已近70%.俨然已成为 ...<全部>

工艺设备

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EUV
Cymer

154

东芝展望EUV量产在即双图案化技术并用

发布时间：2020-07-01

东芝在荷兰阿斯麦(ASML)公司于2010年11月18日在东京举行的[ASML/BrionComputationalLithographySeminar2010"会议上.展望了引进EUV(超紫外线)曝光技术进行量产的前景.东芝统管光刻技术开发的东木达彦表示[即将 ...<全部>

工艺设备

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东芝
EUV

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ASML:预计2015年可发布首款量产型EUV机台

发布时间：2020-07-01

极紫外光(EUV)微影技术将于2015年突破量产瓶颈.传统浸润式微影技术在半导体制程迈入1x纳米节点后将面临物理极限.遂使EUV成为产业明日之星.设备供应商艾司摩尔(ASML)已协同比利时微电子研究中心(IMEC)和重量 ...<全部>

工艺设备

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EUV

44

大数值孔径EUV光刻需要更大尺寸光掩膜板吗?

发布时间：2020-07-01

目前.芯片行业的主流刻蚀技术为193nm浸没式光刻外加双重图形成型技术(double patterning).然而随着特征尺寸的不断缩小.人们难以找到折射率更高的浸入液.并且双重图形成型技术要求在同一层面上刻写两次之外.还 ...<全部>

工艺设备

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EUV

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台积备战3nm全靠极紫外光微影设备

发布时间：2020-07-01

极紫外光(EUV)微影设备无疑是半导体制程推向3nm的重大利器. 这项每台要价高达逾近亿美元的尖端设备.由荷商ASML独家生产供应.目前主要买家全球仅台积电.三星.英特尔及格罗方德等大厂为主.EUV设备卖价极高.原 ...<全部>

工艺设备

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EUV

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中芯1.2亿美元下单最先进EUV光刻机,后续还得解决这些问题-

发布时间：2020-06-12

据知情人士透露.中国最大的晶圆代工厂中芯国际已经订购了一台EUV设备.在中美两国贸易紧张的情况下.此举旨在缩小与市场领先者的技术差距.确保关键设备的供应.EUV是当前半导体产业中最先进也最昂贵的芯片制造设备 ...<全部>

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EUV
中芯

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中芯1.2亿美元下单最先进EUV光刻机如何躲过瓦森纳协定的?

发布时间：2020-06-09

据日经亚洲评论(Nikkei Asian Review)15日援引消息人士的话称.中国芯片加工企业中芯国际(SMIC)向全球最大的芯片设备制造商--荷兰ASML订购了首台最先进的EUV(极紫外线)光刻机.价值1.2亿美元.目前.业内已达成 ...<全部>

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EUV
中芯

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台积电.三星EUV需求增强 2019年产量订单有望全满

发布时间：2020-06-08

?巴伦报导.芯片设备供应商艾司摩尔ASML的表现可能要比大多数人想像的要好.瑞士信贷分析师Farhan Ahmad即认为.艾司摩尔的产品是芯片制造商台积电与竞争对手三星电子争夺霸主地位的关键要素.估计可以在鹬蚌相争 ...<全部>

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三星推出新工艺.7nm工艺将上EUV极紫外光刻

发布时间：2020-06-04

Intel虽然一再强调自己的xxnm工艺才是最精确的.比如同样标称10nm.自己要比三星.台积电的领先整整一代.但是没办法.人家的脚步要快得多.今天.三星电子又宣布了新的11nm FinFET制造工艺[11LPP"(Low Power Plus) ...<全部>

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7nm
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